该厂为84英寸晶圆制造线配套工程的超去离子水操作系统，时刻所产生含硅生产废水150吨。生产废水里面虽无巨资属，但硅分量高易水垢，且阻值率需达到了18MΩ·cm性能中水回用。固有加工处工院艺不能满意新出台的《光电行业水生态破坏物排污口的标准》（GB39731-2020）特点排污口规定值。 污废水 化学成分亮点 常见被工业废气 ：氢氧化铁硅（200-300mg/L）、科粒硅（颗粒直径0.1-1μm） 独特规范 ：TOC<10μg/L，硼含铁<5μg/L 环境质量形态 ：低导电率（<50μS/cm）但硅单质结构繁杂 治理技艺流程步骤 企业创新按照"梯级膜隔离+电去阳离子"组合成技术： 微滤预治理 ：1μm陶瓷制品膜阻止大颗粒状硅，通量形成80LMH 阳离子调换硅橡胶 ：D201大孔树脂材料进行性过滤硅酸大分子 二次元RO系統 ：一、段回收公司率60%，然后段分为高脱硼膜元器件 EDI电去正离子 ：感应电流规格2A/m²，维持去掉残留正离子 太阳光的紫外线臭氧消毒 ：254nm紫外光线用量40mJ/cm² 水平优点 的开发使用阻硅剂（生产胺类混合物），减轻膜感染时间3倍 EDI组件不断创新流道设置，硅快速清理率提升自己至99.8% 百度在线硅介绍仪（在线测量使用范围0.1-500μg/L）保证精准度设定 加载功效 经第四方探测： 总硅从280mg/L减少为0.05mg/L 硼含铁从8μg/L降低0.3μg/L 系统回笼率从原40%提高至68% 膜根换定期延缓至5年，年运转价格降35%